扩散 平面光刻工艺 离子注入. T1 N7 c/ Y0 N& k
- V: c) k: |* Y+ H2 `' K' `
图一.5台机器，6个步骤的微型FAB工艺流程示意图; e3 s6 j" F0 i
0 y U" D6 E4 w; c微型FAB包括在3种不同的机器组，6个步骤的工艺流程和2种产品晶片和试验晶片。在每个机器组，步骤4，5，6处都是一个再进入入口。机器组包括扩散—C1（2个机器Ma和Mb），离子注入－C2（2个机器Mc和Md）和平面光刻技术－C3（一个机器Me）。$ o" O% v, D. V- b
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发表于 2011-3-18 21:49:26
