扩散 平面光刻工艺 离子注入 2 O% b, t& Z5 X / w2 V- l0 p9 o# j8 K
图一.5台机器，6个步骤的微型FAB工艺流程示意图8 k \6 o, f4 a! D2 y
; D7 T7 w1 U% t3 W
微型FAB包括在3种不同的机器组，6个步骤的工艺流程和2种产品晶片和试验晶片。在每个机器组，步骤4，5，6处都是一个再进入入口。机器组包括扩散—C1（2个机器Ma和Mb），离子注入－C2（2个机器Mc和Md）和平面光刻技术－C3（一个机器Me）。3 Q4 W* m: I6 O
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发表于 2011-3-18 21:49:26
