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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面
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) u3 G* T- L/ N- x3 W效果, K$ q3 C8 ~$ @

- u% f$ @* g0 P9 [  L9 i# ?4 G/ a/ L0 d真实反射
5 L0 L$ E; l. N. `0 X8 j7 F, z& x, g4 p3 ]8 p  h

, d; y$ ~& }" h9 y4 a2 d) x   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。+ }$ n2 a  e4 x

& Q+ H& _! M" w% W4 l7 D+ VSP2更新说明——
( a4 _& `9 ~' h) e增加:
, q" D# {/ J4 U5 u: B  y% O6 B5 f简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供3 {) |+ }! w1 L# c
修改列表:
9 Y2 l6 H; [3 \( W0 w  p1、视点转换在任何导航模式下生效;
/ v4 G9 f4 {% v1 P2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;% Q; w2 s! Y6 C" R' L  i3 \8 U
3、天体解除了程序雾效;' `* H! L7 p) {  }
4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;
- \3 `- e( ~8 f) U5 n& A5、提高模型库加载效率;
# B  Y8 s7 h- [/ y+ M6 |6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;# |* {) `( f$ z2 T0 K
7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;
' _. f$ d4 ~+ Z. b8、层操作、编辑功能脚本支持;
& W) o" r5 ^' ]% C. O$ l9、地板反射支持凹凸;
. E. _/ B( a. I; R/ P1 U10、移除了编辑器点击右键也选中物体;
& h& v; [8 Y- c4 _1 [11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;
  M2 M0 _% s3 j( S/ E
1 N( f! \/ M9 r6 X! x注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。3 f8 V, i- K8 H! e* u

6 V) \- L1 |. m3 f- a/ YVEStudio2.2正式版下载:
0 u: L% z3 y; V' J+ J1 @+ x- E: ahttp://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe
! b! T4 X7 u# p9 G1 K- _* P, V' osp2下载:
, C3 A8 J$ C% p" j6 p2 ]1 vhttp://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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