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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面( U. d' M8 W$ _% c

; U: T$ }! L3 E) F3 {效果
( H: z1 r0 T- {$ C! ]$ g+ h! ]% q; [) z3 A" r9 ^5 n9 A9 H  \
真实反射  H5 X0 h6 f2 J

5 H0 X: G, k0 Y8 ?4 H4 g( i0 P6 ^% E1 Z
   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。- x5 S" f' w/ c' x% |& `( l
( R8 [& A$ ~- {" j# e
SP2更新说明——$ h8 U$ M( v: d
增加:
9 x) Q6 Z) |/ G" g简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供$ t( T, H. {2 b5 Y  U2 {- s
修改列表:
2 ]" C( ~: |4 K- n# w' D1、视点转换在任何导航模式下生效;
, D8 C! ^+ y* F2 ^, a2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;3 ]$ M2 h4 {7 V  h5 |+ L) s2 P$ p
3、天体解除了程序雾效;
( O* {/ z/ y5 r7 B. I4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;! l6 l, y9 Y8 l- J
5、提高模型库加载效率;( B- t' b: a5 M8 F% P, B
6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;
! T, V2 i9 O1 J& D4 e! f7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;5 W  `+ m( F# h( q8 e
8、层操作、编辑功能脚本支持;
- J" I" B, h# w9、地板反射支持凹凸;
) p* i9 e6 ~8 N# ], Q10、移除了编辑器点击右键也选中物体;
) ?5 Y% [9 [  y9 R7 J9 e% S3 Y11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;  k8 F4 p2 A  d' w+ W0 O5 A
& c# J8 F( T* o, o3 O
注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。
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7 i- y( }5 }: W+ h" m; z0 H/ |VEStudio2.2正式版下载:
* }( ?, C2 v: ]& y: jhttp://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe
% Q9 Q+ q3 }  g; q7 Wsp2下载:- i7 }; `$ S5 V# O/ {8 i: z
http://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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