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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面
; f( y6 w# ~+ W. m- ]$ E
0 i) F; D/ e6 U效果3 P* N, `% E- c7 G6 P' Y

& ^4 r& m6 X7 L8 F真实反射
1 g7 A/ X: M) f7 \! N% k1 Q; N# T% h+ a6 a2 ~

4 W8 N7 {) t7 g4 C) v1 s   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。1 a; _. x6 j' K7 }0 C5 r, e& v

. J5 T, N# ]) h  n0 g0 bSP2更新说明——
; L7 |& z9 D6 ?: F增加:% n0 H9 }; h/ ~9 _; b
简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供
+ V! P: y& {6 j2 v  @# y. [& S修改列表:
& e6 l7 [; I( {  u& H8 F, X1、视点转换在任何导航模式下生效;2 O; p9 r2 e7 v  ]3 f
2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;3 D9 e% m, r8 E9 ]) _
3、天体解除了程序雾效;  Q: U2 G5 Y0 S9 G2 p$ X
4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;: ?8 c: ~4 F, t
5、提高模型库加载效率;
3 m0 v, C5 _. U0 ~& Q6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;
: u- }+ l7 {: L+ s9 o% T$ E4 O7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;5 s/ S: t: E7 O* u2 A
8、层操作、编辑功能脚本支持;
' u3 z: u) E" `9 Z6 v& _$ W, i9、地板反射支持凹凸;. ^" E8 k) m/ U/ B2 W  d! c
10、移除了编辑器点击右键也选中物体;3 j, j+ ]+ W) m' Y& P, U1 w
11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;# v4 w7 _3 x( j* F3 c% a, f
4 `, q, R; m% j7 t% @* T& {
注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。; x& r/ J0 d, f- V) H. x' X0 P# A, s& f" F

; t* P: u: }6 b. F' r" \/ NVEStudio2.2正式版下载:) n+ \3 F5 \% Z1 p: l% W
http://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe 4 Z. K; U2 Z  c) ]& X: l% I# a) i
sp2下载:, W8 q$ b- ~- {6 ~
http://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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