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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面8 a# U6 Y4 w% ^/ \2 {4 J: {
3 J4 C: C8 `; R% g
效果2 i5 U, i& ~- x% \2 {

# q0 z. E7 f4 I  d# c+ U5 q# D1 K真实反射- `( n1 t7 `8 E0 @

1 _; l- c  e+ H1 n5 W% r% z- ]$ O5 s" q' \, {
   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。! c1 h' {) X# J& r+ k/ @! z

# W* n& T; x5 q# D4 eSP2更新说明——* z1 [. \1 u7 T
增加:
: \" A2 L' [3 R' @  z& i; {简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供, m/ }$ V7 I) I* c( o
修改列表:! g7 ^3 x5 f/ W% ?' s" x
1、视点转换在任何导航模式下生效;
( N( h) N' C! m2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;5 Y8 c8 Y% L3 L/ S+ h* F1 \: ?  s
3、天体解除了程序雾效;+ i5 b' ]7 I5 D' ]0 {
4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;' G& R- h9 j2 M/ ]2 v0 g5 _3 P: N
5、提高模型库加载效率;- j& d0 X- F0 Q3 f8 ?
6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;# Z: r( s5 d$ Q0 Q9 D; y
7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;2 ^6 e* B. J& ~4 o
8、层操作、编辑功能脚本支持;
6 y4 ?$ B- F6 k# S4 P1 \9、地板反射支持凹凸;
6 J. z* p- p" [2 [  e10、移除了编辑器点击右键也选中物体;
% u: s! [; ?& j& u. F* s11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;
4 ^1 W. R. b! k, \7 U7 s
+ y: ?9 n) B; C' z注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。  Y! [  ]* M5 _& a

6 |, {1 J  M0 `8 UVEStudio2.2正式版下载:6 U, e0 I7 E4 j- B
http://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe 1 y% }% ?4 S) X) ~8 Z  N6 j
sp2下载:
4 x0 a8 [/ B5 [/ @) W0 R1 Uhttp://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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